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Glossar

CVD-Chemical Vapor Deposition

Verfahren zur Abscheidung von festen Schichten durch Reaktion oder Zersetzung gasförmiger Ausgangsstoffen (Chemical Vapor Deposition). Diese Methode wird in großem industriellen Umfang zur Oberflächenmodifizierung durch Aufbringen dünner Schichten auf ein Substrat angewendet, z.B. Titannitrid auf Hartmetallwerkzeuge. Durch Reaktion von Zinkdampf mit Schwefelwasserstoffgas wird polykristallines Zinksulfid auf einem Substrat abgeschieden . Nach einigen hundert Stunden kann man die zentimeterdicken Platten von dem Substrat lösen und als Optikmaterial weiter verarbeiten. Entsprechend können auch polykristallines Zinksulfid und Siliziumcarbid hergestellt werden.

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